据外媒报道，台积电在近举行的年度技术研讨会上透露了大量有关该公司的信息，尤其是有关其芯片制造业务未来的信息。这些信息包括有关N5、N4、N3和N12e等先进工艺节点的新细节，这些节点将在未来几年为许多设备提供动力。不过，台积电也透露了自己在制造实力中的地位。

根据Ian Cutress博士的，台积电目前占到行业EUV（极紫外光）设备安装数量的50%。此外，台积电还宣称其EUV晶圆产量占整个行业累计产量的60%。

台积电的N7+工艺是该公司个使用EUV光刻技术的节点，而该公司的N5工艺将进一步利用EUV技术。此外，任何超5nm的器件都将广泛依赖EUV光刻技术。目前，除了台积电的N7+和N5，三星也有其7LPP工艺并有望利用EUVL。

ASML是一家生产和销售EUV光刻设备的公司，据Cutress估计，台积电已经从这家公司手中购买了30-35台设备。据估计，ASML今年已售出约70台机器，等到底可能会达到90台。

近，台积电庆祝了10亿多块无缺陷7nm芯片的出货。